KaPaTek produziert und vertreibt optische Schichtdicken Meßsysteme auf der Basis spektroskopischer Reflektometrie. Diese Dünnfilmmeßsysteme eigenen sich zur zerstörungsfreien und extrem genauen und schnellen Bestimmung der Schichtdicke und deren optischer Eigenschaften von transparenten und semitransparenten Schichten auf Substrat. Die Schichtdicken können im Bereich von 5nm bis 300µm mit eine Auflösung von 0,1nm durchgeführt werden. Die durchschnittliche Meßzeit beträgt ca 0,5 bis 1 sec. Daher eignen sich diese Meßsysteme auch für Inline Messungen, z. B. für das Monitoring beim Aufwachsen von PECVD Schichten, wie SiO2 auf Si oder SiN auf Si etc.